2017已邁過一半，回首上半年的LED行業(yè)給人呈現(xiàn)一片祥和的畫面，大家過的不錯，主旋律最厲害的就是擴產(chǎn)投資，而相比這個更熱的應當是MicroLED，2017年上半年的MicroLED風可以說席卷全球，引來無數(shù)參與者，而且參與者的體量越來越大，為此在線君整理了2017年上半年MicroLED大事件與大言論。

鴻海收購Micro LED公司eLux

鴻海上半年對外公告，為了布局新時代顯示技術Micro LED，公司通過子公司CyberNet投資約資1,000萬美元取得eLux部分股份。投資后，CyberNet預計將持股45.45%、群創(chuàng)將持股13.64%，榮創(chuàng)將持股9.09%，屆時泛鴻海集團將成為eLux最大股東。

eLux是一家成立于2016年10月的美國新創(chuàng)公司，地點位于美國華盛頓州南邊的小鎮(zhèn)Camas。eLux與日本夏普的淵源很深，執(zhí)行長Jong-Jan Lee與技術長Paul Schuele均出自夏普美國實驗室（Sharp Laboratories of America）。

三安光電已悄然布局MicroLED

三安光電上半年在互動平臺上回復投資者提問時表示，Micro LED是未來三安的重點發(fā)展方向，公司在一兩年前就開始在研發(fā)。

VueReal開發(fā)出6000ppi Micro-LED顯示屏，2018年量產(chǎn)

據(jù)外媒PRNewswire報道，加拿大企業(yè)VueReal開發(fā)出了一款4K微型LED顯示屏，像素密度高達6000 PPI，創(chuàng)下了發(fā)射顯示器最高PPI紀錄。VueReal計劃于2017年完成驗證和評估，并在2017年10月前向感興趣的客戶提供樣品，并計劃于2018年開始量產(chǎn)，以滿足小眾客戶使用需求，并將其技術授權給顯示屏制造商。

傳言三星有意收購PlayNitride遭否認

據(jù)以色列媒體《OLED-info》引述內情人士消息稱，三星將以約1.5億美元收購臺灣Micro-LED技術公司PlayNitride。報道指出，三星的目標是開發(fā)用于VR應用的Micro-LED顯示器，但也可能利用PlayNitride的技術研發(fā)Micro-LED電視。而對于三星有意并購錼創(chuàng)的傳聞，錼創(chuàng)執(zhí)行長李允立表示：“是個美麗的誤會，錼創(chuàng)跟不少國際大廠都有合作關系，目前并未被三星并購。”

蘋果臺灣龍?zhí)秾嶒炇?018量產(chǎn)Micro LED，iWatch率先用？

根據(jù)臺北時報（Taipei Times）報道，蘋果位于臺灣地區(qū)桃園龍?zhí)兜膶嶒炇�，將�?017年底開始小規(guī)模生產(chǎn)Micro LED面板，應用在下一代Apple Watch上。報道更指出，蘋果將在2018年開始在龍?zhí)读慨a(chǎn)Micro LED面板，預計將對其他面板廠如三星、LG Display帶來不小壓力。

看好Micro-LED潛力，聚積攜臺工研院開發(fā)超小間距LED顯示技術

聚積科技上半年發(fā)布公告，公司董事會已經(jīng)決議和財團法人臺灣工業(yè)技術研究院 （ITRI）合作開發(fā)Micro LED的顯示模塊。公司希望通過此次合作，將有助聚積加速micro-LED顯示屏驅動IC開發(fā)時程，加快未來協(xié)助客戶導入Micro-LED在超小間距顯示屏的應用。

聚積董事長楊立昌表示，要制造P1（點間距1mm） 以下的小間距LED顯示屏，目前已遇到技術與成本瓶頸，即使有LED顯示屏廠可生產(chǎn)P1以下顯示屏，也都無法量產(chǎn)，這個缺口正是micro-LED的機會。

群創(chuàng)：MiniLED、MicroLED 兩手抓

布局下一時代顯示技術，群創(chuàng)執(zhí)行副總、技術開發(fā)中心負責人丁景隆表示，群創(chuàng)MiniLED和MicroLED同步發(fā)展，MiniLED可實現(xiàn)異形切割、曲面，有機會在1、2年后量產(chǎn)出貨。

丁景隆看好MicroLED是下一時代的主流顯示技術之一，只是現(xiàn)在還有巨量轉移等等技術問題有待解決。而群創(chuàng)宣布開發(fā)的MiniLED是中期戰(zhàn)略，群創(chuàng)希望借此縮短與MicroLED的距離。并且目前群創(chuàng)此技術已經(jīng)大致就緒，預期再需要一年的時間技術到位。

Evatec ：擁有半導體設備的光電廠才能立足在Micro LED

瑞士半導體設備商Evatec上半年在接受LEDinside采訪時表示，傳統(tǒng)芯片制程以現(xiàn)有設備就可以完成，但是到Micro LED制程，則需要半導體設備等級的才能夠達到零缺陷 (Zero Particle)。

以Micro LED技術來說，亮度并不是最主要的要求，最主要目標，則須達到零缺陷 (Zero Particle)與提高生產(chǎn)良率(Product Yield)，因此展望未來，擁有半導體設備的光電廠商才有可能長期立足在Micro LED市場技術發(fā)展。

據(jù)其介紹，在LED/Micro LED制程上來說，使用Evatec的CLN 200 / RADIANCE設備，可達到設備機臺通用性，可以應用在TCO, Metal Electrodes, 以及DBR等制程上。除此之外，相較于在Batch Tool過去以來采用手動放片，Evatec設備可達到自動化生產(chǎn)，Cassette to Cassette。半導體等級設備上可達到降低電壓、零缺陷 (Zero Particle)，同時電流散布(Current Spreading)上致密度也會相對提高。

晶電李秉杰：Micro LED于穿戴與VR應用1～2年內可實現(xiàn)

在晶電2017年6月21日召開股東常會上，晶電董事長李秉杰表示，Micro LED可視為Mini LED前身，目前全球可同時供應RGB三色LED的僅晶電、歐司朗二家，晶電可取得商機。

他還表示，Micro LED確定將會用6寸晶圓長晶，晶電可生產(chǎn)磊晶，或是做到芯片，不過在市場方面，他認為在穿戴裝置、VR等樣機，Micro LED在1～2年內可實現(xiàn)，但進階到10吋以上的大尺寸領域，恐還需要3～5年。